仪器型号:URE-2000A

生产商:中科院光电所

应用范围:
    本设备采用CCD图像底面对准技术,单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩膜一样片精密对准工件台结构设计,掩膜一样片对准过程直观,套刻对准速度快、精度高。掩膜板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式,操作方便。该设备可应用于紫外光对正胶或者负胶进行照射,通过显影可对样品进行精细的图形化。
主要技术指标:
曝光面积:150mm×150mm
分辨力:1μm(胶厚1.5 μm的正胶)
对准精度:±3μm(双面)
最大胶厚:500μm(SU8胶)
掩模尺寸:3inch、4 inch
样片尺寸:直径小于等于4inch
照明均匀性:±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)
汞灯功率:1000W(直流)
掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°

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