仪器型号:MDA-400M

生产商:韩国Midas System Co.Ltd.

应用范围:

    本设备用于紫外光对正胶或者负胶进行照射,通过显影可对样品进行精细的图形化。

主要技术参数:

 

项目

描述

曝光系统

光源强度

350W UV曝光源

分辨率

1μm(真空接触)

光强均匀性

≦±3%(4英寸基片)

曝光时间可调范围

0.1 to 999.9秒

对准系统

对准精度

1μm

间隙校准

手动(数码显示)

控制器

PLC控制

制程模式

真空,硬,软接触和接近式

 

PSS制程(真空接触)

接近式调节

1μm增量

吞吐量

50片/小时

样品 

基片尺寸

2,3,4英寸

掩模尺寸

4,5英寸

其它配备

真空度

>650mmHg

压缩空气

>6kg/c㎡

氮气

>4kg/c㎡

电源

220V,30A,1Phase

监视器

19寸液晶

 

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